图片名称

plasma设备crf的应用领域和机理

关键词:

发布时间:

2023-04-25

plasma设备crf的应用领域和机理:
       随着我国经济快速发展,清洁技术不断发展和创新,从传统的手工清洗到化学试剂清洗、高压水射流清洗和超声波清洗。随着科学技术的快速发展,作为本世纪初plasma设备表面处理工艺的产生,清洁技术已逐渐广泛应用汽车工业涂料预处理、液晶面板表面清洗、电路板印刷、电镀、油污替代化学处理等领域。
       plasma设备清洗技术在应用过程中具有清洗效果彻底、处理表面稳定、清洗困难部位有效清洗等特点。plasma设备的工作原理主要依靠等离子体活性颗粒的“激活”来去除物体表面的污渍。

plasma设备       在反应机制方面,plasma设备的等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被刺激为等离子体状态;固体表面吸附气相物理;吸附基团与固体表面分子反应产生产物分子;产物分子分析形成气相;反应残留物脱离表面。
       材料表面产生的plasma设备反应主要有2种:一种是等离子体的物理反应,另一种是自由基的化学反应。
       plasma设备和材料表面的物理反应主要是利用离子作为纯物理冲击,原子或附着在材料表面的离子,因为平均自由基的低压,能量积累,所以在物理冲击中,离子能量越高,越容易产生冲击,所以如果物理反应,必须控制低压反应,使清洁效果更好
。

热门产品

相关文章